感光剤やレジストポリマーといったフォトレジスト材料の競争が激化している。半導体市場の回復に合わせ、各社はポートフォリオの拡充や設備投資に乗り出し、極紫外線（ＥＵＶ）レジスト向けなど先端領域で事業拡大を狙う。レジスト材料市場は半導体市場の拡大にともない、年平均７％で成長する見通し。半導体フォトレジスト市場は日系メーカーが８～９割のシェアを握っており、川上のレジスト材料側も日系メーカーがしのぎを削っている。

　富士フイルムはフォトレジスト材料事業の売上高を２０２６年度に２３年度比７割増やす。強みを持つＥＵＶ用光酸発生剤（ＰＡＧ）、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）用レジストポリマーを拡大させ、ＥＵＶ領域ではレジストポリマーの素原料となるＥＵＶ用レジストモノマー、重合開始剤などを伸ばす。「半導体市場は底を脱しており、幅広い顧客ニーズを捉え、事業を拡大させる」（吉田光一ファインケミカル事業部長兼富士フイルム和光純薬社長）考えだ。

　富士フイルムグループはフォトレジストも手がけるのが強み。富士フイルム和光純薬がレジスト材料の受託生産を手がけ、一方で富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（ＦＦＥＭ）がフォトレジストを生産しており「レジスト材料メーカーでありながら、レジストに対する深い知見を持つ強みがある」（同）。先端領域で高度な分析・評価技術が求められるなか、ＦＦＥＭが持つ分析技術や評価装置を活用できる利点もある。

　レジスト材料の２３年度売上高は２０年度比で３割増えた。２６年度に向けて大幅な増収を狙い、ＰＡＧは先端ＥＵＶ向けの受託生産を拡大し、トップシェアを目指す。レジストポリマーは主力のＫｒＦ用レジストポリマーを伸ばすほか、ＥＵＶ領域ではさらに川上の素原料ビジネスに力を入れる。ターゲットは先端ＥＵＶ向けの超低メタルレジストモノマー、重合開始剤など。レジストモノマーや重合開始剤はフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、ＥＵＶなどの領域で実績化が始まっており、さらなる拡大を目指す。

　ＥＵＶ向けのＰＡＧでトップを走る東洋合成工業はこのほど、千葉工場（千葉県香取郡）に感光材の開発分析棟を竣工し、ＰＡＧの開発・分析能力を強化した。７月には製造設備の増設を終え、先端向けのＰＡＧやレジストポリマーを増産する。ＤＩＣは昨年、カナダのレジストポリマーメーカーを買収。カナダ工場と既存の北陸工場（石川県白山市）で増強を進め、先端領域でシェア拡大を目指す。

　昨年、ＡｒＦ用レジストモノマー首位の大阪有機化学工業は、金沢工場（石川県白山市）の生産能力を２１年比で１・６倍に引き上げた。今後はＥＵＶ用レジストモノマーにも力を注ぐ。ＡＤＥＫＡも昨年、千葉工場（千葉県袖ケ浦市）でＰＡＧの生産能力を２倍以上に引き上げている。