三菱ケミカルグループは１２日、北九州市の拠点に、フォトレジスト用感光性ポリマーの製造設備を新設すると発表した。数十億円を投じ、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）用とＥＵＶ（極端紫外線）用ポリマーの設備を設け、２０２５年１０月、同年９月にそれぞれ稼働する予定。半導体回路の微細化にともないＡｒＦとＥＵＶフォトレジストの市場成長が見込まれるなか、供給体制を拡大して伸長する原料需要を獲得する。

　北九州市の三菱ケミカル九州事業所・福岡地区に、ＡｒＦフォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」とＥＵＶフォトレジスト用リソマックスの各量産設備を新設する。関東事業所・鶴見地区（横浜市）との２拠点体制で需要増に対応するとともに、サプライチェーン強靭化を図る。新設備稼働でＡｒＦ用は生産能力が２倍以上に引き上がる。ＥＵＶ用は初めての量産となる。

　リソマックスは金属含有量や不純物が少ないため半導体の回路微細化にともなう高度な品質要求に対応でき、採用を拡大している。