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  • 半導体材料特集 堀場製作所、計測技術を一気通貫で提供
  • 2025年8月25日
    • 粒子径分布と形状情報を同時に解析できるPartica
      粒子径分布と形状情報を同時に解析できるPartica
     堀場製作所グループは、ラボにおける研究開発からマスフローコントローラー(MFC)や薬液濃度モニターといったプロセス制御・モニタリング機器で、長年にわたり半導体製造プロセスの進化を支えてきた。最新の中長期経営計画「MLMAP2028」は全社横断での技術融合を進め、材料分析、プロセスモニタリング、ファシリティ計測までを一気通貫で支える体制を築き、次世代の製造現場に新たな付加価値を提供している。

     こうした横展開の象徴が、全自動薄膜検査装置「Xtrology」だ。また、プロセスモニタリング領域でも、レーザーガス分析計「LG―100」などの新製品を開発し、ラインアップを拡充している。

     生産・技術基盤の拡充も進む。韓国ではウエハ検査装置を手がけるEtaMax社を買収。化合物半導体の欠陥分析に強みを持つ同社と、堀場の分光技術を融合し、歩留まり改善や品質保証に寄与するソリューション提案力強化を目指す。

     堀場エステックの主力製品のMFCでは、旺盛な半導体投資に対応し、マレーシアに新工場を建設中(2026年稼働予定)。国内でも京都府福知山市に国内最大規模の新工場を設け、生産能力を現状の最大3倍に引き上げる。

     同社のMFCは、世界初の接ガス部オールメタルや高精度な圧力式「CRITERION(クライテリオン)シリーズ」など、半導体製造装置・流体制御機器分野で常に技術革新を先導してきた。高精度・高再現性の制御技術に加え、国家計量標準機関である国立標準技術研究所(NIST)とトレーサビリティの取れた流量標準器を社内に備えており、グローバルで支持を集めている。

     ラボ向けでは、新製品の粒子径・形状解析装置「Partica(パーティカ)」を発売。数分間で粒子径分布と形状情報を同時に解析可能であり、化学機械研磨(CMP)スラリー研磨材など、ナノ粒子・粗大粒子を高感度で測定することで、開発・品質管理に貢献する。
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