三井化学は、半導体材料で前工程から後工程・実装まで幅広い製品群を有し、先端領域の高度化ニーズに対応し成長を加速する。世界シェアトップを誇る、フォトマスクを保護する薄膜材料「ペリクル」や、製造工程で使用される表面保護テープ「イクロステープ」の重点製品を軸に、伸長する需要を捉え事業を拡大する。出資する新光電気工業との技術融合で次世代材料を創出し、事業基盤を一層強固にする。

　ペリクルは、半導体露光工程でフォトマスクに塵が付着しウエハーに結像するのを防ぐための保護膜。三井化学は２０２３年、旭化成の同事業を取得するなど強化策を実行し、深紫外線（ＤＵＶ）ペリクルは世界トップの供給力を持つ。液浸フッ化アルゴン（ＡｒＦ）向けを中心に提供し、先端領域で販売が伸びている。稼働率も高い状況で、今後、生産能力の増強を視野に入れている。

　最先端の極紫外線（ＥＵＶ）露光に用いられるペリクルは、半導体製造装置大手の蘭ＡＳＭＬからライセンスを受け、２１年に商業生産を始めた。さらに、高透過性と高出力への耐久性を満たすため、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を使った次世代製品の開発に取り組み、２３年にはベルギーの半導体研究開発機関ｉｍｅｃと戦略的パートナーシップを結び実用化を進めてきた。

　次世代ＣＮＴペリクルの量産設備を岩国大竹工場（山口県和木町）に導入し、２５年１２月の完工を予定する。半導体微細化技術の進展にともなう品質要求の高まりに応え、シェア拡大につなげる。

　イクロステープは台湾拠点で２４年に生産能力を２倍以上に引き上げた。供給力を生かして攻勢をかける。前工程で使われるジシランガスも高いシェアを握り、販売が好調に推移する。

　新規事業の創出にも注力する。出資する新光電気工業の評価技術や豊富な装置と、三井化学の素材力などとのシナジーを創出し、次世代パッケージ向け材料の開発を加速する。先行して採用を獲得して競争優位性の確立を目指す。