露光装置市場をリードし、極紫外線（ＥＵＶ）露光装置で１００％のシェアを握る蘭ＡＳＭＬ。日本市場にＥＵＶ露光装置が導入されたことで、ＡＳＭＬジャパンのサポート体制もさらに強化された。藤原祥二郎社長に技術の方向性や今後の展望などを聞いた。

▼…ＡＳＭＬの歴史について。

　「蘭フィリップスのリソグラフィー部隊が独立し、１９８４年にＡＳＭＬが発足した。当時は３１人のベンチャー企業。今では従業員数が４万４０００人にのぼり、１４０カ国以上の人材が働いている。３分の１以上の１万５０００人がＲ＆Ｄに従事し、開発に特化するのがＡＳＭＬの特徴だ。開発投資も売上高の１５％を占める。半導体市場は成長市場であり、その成長を支えるのが技術革新だからだ」

▼…技術進化はどこまで続きますか。

　「ＥＵＶは第２世代の高ＮＡ（０・５５）露光装置の出荷が始まった。２０３０年以降にはハイパーＮＡ（０・７５）を計画している。ご存じの通り、当社の装置は高価だ。ただ、装置の価格が１・５倍でスループットも１・５倍であればウエハー１枚当たりのコストは同じ。スループットが２倍ならコストダウンだ。そのため、われわれはスループットを絶えず上げていく」

▼…周辺技術にも力を入れます。

　「露光装置を高精度で使いこなすためだ。一つはシミュレーションソフト。あるパターンを形成する際、どのような光の形が最適か、などの計算を行う。もう一つは検査・計測装置。正しく露光されているか、位置が合っているかなどを検査する。露光技術は極限まで難易度が上がっており、周辺技術も活用し、効率的かつ正確な露光を実現していく」

▼…ＥＵＶ露光はどれほど難しいのでしょうか。

　「最新のＥＵＶ露光の位置ズレ精度は０・９ナノメートルで１ナノメートル以下だ。シリコン原子のサイズが０・２５ナノメートルなのでシリコン原子４個分以下のズレしかない。レチクルとウエハーを同時に高速で動かしながら露光し、この精度を実現している」

　「最近は『２ナノメートル』という単語が飛び交っているが、ナノの世界はイメージをつかみにくいと思う。人の髪の毛は１カ月で１㌢メートル伸びるそうで、計算すると１秒間で４ナノメートル伸びていることになる。２ナノメートルはこれの半分。最先端の半導体はそういう世界を生きている」

▼…ＡＳＭＬジャパンの役割は。

　「０１年に発足し、熊本や北上など８カ所に事業所を構える。一番新しい千歳事業所は昨年開設した。ファウンドリーやメモリーメーカー、レジストメーカーなど当社の露光装置を導入する企業をサポートするのがわれわれの役割。国内の約２０カ所にＡＳＭＬの装置が導入されており、２４時間体制で対応している。部品倉庫は７カ所。ＥＵＶ露光装置の場合は、部品倉庫もクリーンルーム対応が求められ、千歳と広島が対応している」

▼…日本は半導体材料メーカーが存在感を発揮しています。

　「キーワードは『オープンイノベーション』。ユーザーの声を聞き、装置開発に反映している。そのため材料メーカーやアカデミアとの協業は欠かせない。日本は装置も強く、われわれの露光装置と直接つながる装置もあるため、装置側との連携も重要だ」

▼…日本市場の戦略について。

　「日本市場の重要性が高まっている。ロジックとメモリーの両方で最先端のＥＵＶ技術を用いるユーザーが出てきたからだ。拡大する日本市場に対応するため、人員を現在の４５０人から今年中に５００人まで増やす。さらに向こう１～２年で６００人まで増やす計画だ。われわれはハードの露光装置をサポートする人材に加え、プロセス知識を持ったアプリケーションエンジニアも抱えている。レジストなどリソグラフィーの知見を持つ人材はアプリケーションエンジニアとして活躍できるため、今後は化学系の人材も広く募集していきたい」

（聞き手＝小谷賢吾）

　＜略歴＞

〔ふじわら・しょうじろう〕１９８１年（昭和５６年）３月名古屋大学工学部卒、同年４月日製産業（現・日立ハイテク）入社。日立ハイテク台湾の董事長兼総経理を経て、２０１８年４月からＡＳＭＬジャパン社長。