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  • 半導体材料特集 東亞合成、2製品を柱に総合力磨く
  • 2025年8月25日
    • 液化塩化水素の増強工事が進む横浜工場
      液化塩化水素の増強工事が進む横浜工場
     東亞合成は、安定供給や品質、独自技術の開発といった総合力に磨きをかけることで半導体材料の拡販を図る。成長の柱となるのはシリコンウエハーの成膜工程で使用される高純度液化塩化水素と、化学機械研磨(CMP)用薬剤の原料となるアクリルポリマーだ。両製品で顧客のニーズを的確にとらえる取り組みを強化し、拡大を続ける需要を取り込む。

     高純度液化塩化水素は、シリコンウエハーの製造工程でウエハー表面に単結晶シリコンの薄膜を成長させる際のクリーニングガスなどの用途に用いられる。東亞合成はとくに最先端領域に強く、世界シェアはトップクラスだ。

     現在のポジションをより一層強固にするために求められるのは、先端分野で高まる高品質ニーズへの対応と安定供給だ。こうした背景から、2024年には製造拠点である横浜工場(横浜市)で生産能力の増強を発表した。

     事業継続計画(BCP)の観点からもう一つの製造拠点である徳島工場(徳島市)の生産能力との均衡を図るほか、高品質かつ高効率の製造を可能とする技術も導入する。今年12月ごろの完工を見込んでおり、先端分野でのさらなる競争力向上につなげる構えだ。 

     半導体の性能向上や多層化が進む中で研磨や洗浄の回数が増加しており、それにともなってCMP用アクリルポリマーの需要も高まりつつある。同製品は、CMPに用いる薬剤に添加することで機能を付与する役割を持つ。

     同製品の特徴は顧客ニーズに応じたカスタマイズ性だ。顧客とのコミュニケーションを通し、研磨工程での砥粒の凝集防止やシリコンウエハー表面の保護といった機能を持たせるなど、顧客に合った処方を導き出す開発力が同社の強みだ。  

     同製品のさらなる拡販に向け、今後は中国、韓国、台湾といった日系以外の薬剤メーカーへの開発も積極的に進め、グローバル化する市場の拡大に対応すべく新規開拓にも注力予定である。
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