東京応化工業は、半導体用フォトレジストをはじめとするエレクトロニクス機能材料および高純度化学薬品のシェア拡大を図り事業成長を実現する。今期始動した新中期経営計画「ｔｏｋ中期計画２０２７」では、最終の２０２７年には２４年実績比３割以上増の売上高２７００億円を目指す。成長に向けた設備投資額は３年間で７６０億円とし、拠点集約型の事業戦略を進めるエレクトロニクス機能材料は福島県郡山市の拠点および韓国での設備投資を進め、地産地消型となる高純度化学薬品は、阿蘇工場・阿蘇くまもとサイト（熊本県菊池市）および台湾での設備増強に取り組む。

　東京応化工業は、１９７０年代から半導体用フォトレジストの開発に取り組むパイオニア企業。汎用領域となるｇ／ｉ線用から、準先端となるＫｒＦ用、ＡｒＦ用、最先端となるＥＵＶ用とフォトリソグラフィ工程で使用する全製品をフルラインナップで展開する。近年ニーズが高まる先端パッケージ向け製品も開発、製造、販売する。高純度化学薬品では、半導体用フォトレジストの知見を活かした現像液やリンス、表面改質剤を取り扱う。２５年１２月期は、生成ＡＩ（人工知能）関連の需要増加を受け、大幅な増収増益で進捗する。

　半導体用フォトレジストの中核拠点となる郡山工場（福島県郡山市）に建設する新棟は世界最高品質の製造機能として２６年下期の稼働を予定する。韓国では、仁川工場（仁川広域市）で新検査棟を建設し、製品のさらなる高品質化および供給能力拡大を実施中。加えて平澤市に高純度化学薬品の新工場を建設し２７年下期の稼働を予定する。

　フォトレジストでは、現在は１・４ナノプロセスといった次世代分野に向けた開発を進めている。

　高純度化学薬品では、半導体産業が集積する阿蘇くまもとサイト（熊本県菊池市）に工場を新設し２５年の稼働を予定している。台湾では、現地子会社と共同開発した表面改質剤が最先端プロセスで採用を獲得。今後の需要増を見込み設備増強を実施する。