台湾三井化学股份有限公司は、最先端の前工程、後工程向けにさまざまな半導体材料でソリューションを提供する。次世代ＥＵＶ（極紫外線）プロセス向けにフォトマスク用防塵カバーのペリクル、シリコン膜形成用のジシランガスなどを供給。次世代パッケージ向けにはウエハー表面保護テープ「イクロステープ」、パネルレベルパッケージ（ＰＬＰ）用のペリクルで顧客ニーズに応える。光学材料も堅調に推移しており、スマートフォンやＡＲ（拡張現実）グラスなどの需要を捉える。

　次世代のハイＮＡ（０・５５）露光装置向けでカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を使った次世代ペリクルの評価が進む。高い透過率と耐熱性が特徴だ。三井化学はＦＰＤ向けのペリクルも手がけており、後工程のＰＬＰ分野でもペリクル市場をリードしていく。

　ガスは汎用向けのモノシランガス、先端向けのジシランガスを手がけ、とくに台湾の最先端市場でジシランガスの引き合いが強まっている。足元、きめ細かい顧客対応を実現しながら、現地ニーズに対応する諸策の検討を進める。

　後工程分野の主力はイクロステープ。従来のバックグラインド工程に加え、耐熱プロセスやバンプ保護向け、ハイブリッド接合向けなど用途を広げている。仮貼り材料としての採用も増えている。

　スマートフォンレンズなどに使われる「アペル」は、ユーザーの歩留まり向上に寄与する新規グレードが今冬にも採用される見通し。ＡＲグラス用の「ディフラ」はガラス代替で差別化を図る。

　化学品ではシューズ向けで樹脂改質材の「タフマー」が堅調に推移する。日本の石化再編によって原料不足が懸念されることから「台湾側から原料を手当てしていく」（井口照信董事長兼総経理）。ＩＳＣＣプラス認証の取得でバイオ品の実績化も進んでおり、将来の炭素税導入を見据え、取り扱いを強化していく考えだ。